半導体周辺装置・
各種パネル洗浄装置

半導体洗浄装置は、半導体製造プロセスにおいて基板や部品表面の微細な汚れや不純物を除去し、高い清浄度を保つために使用される装置です。
洗浄工程は、半導体の品質や性能に直結する重要なプロセスであり、超純水や特殊な薬品を用いて汚染物質を確実に除去します。
弊社が製造する半導体洗浄装置は、塩ビ（PVC）板を活用しており、高い耐薬品性を発揮するため、腐食性の高い薬品や環境にも対応可能です。また、塩ビは加工性が優れており、複雑な形状やカスタマイズにも柔軟に対応できます。
１つのユニットが大型の（3000㎜×3000㎜×3000㎜クラス）半導体洗浄装置にも対応可能です。

半導体製造において強酸や強アルカリの薬液を安全に貯蔵・供給するために使用されます。塩ビは優れた耐薬品性を持ち、腐食や劣化を防ぐため、長期間安定して利用できます。また、軽量で加工が容易なため、設置や移動が簡単で、効率的な薬液供給を実現します。これにより、洗浄やエッチングプロセスのスムーズな運用に寄与します

洗浄ブースやエアナイフブースは、太陽光パネルや液晶パネルの製造工程において、効率的かつ安全な洗浄を実現するために使用されます。これらのブースは、製品の表面に付着した微細な汚れやパーティクルを除去することを目的としています。特に、液晶パネルや太陽光パネルの製造では、表面の清浄度が製品の品質に直接影響するため、洗浄工程は非常に重要です。軽量で加工が容易なため、洗浄ブースの設計やレイアウト変更が容易で、製造現場のニーズに柔軟に対応できます。エアナイフブースは、洗浄後の製品表面に残った水滴や微細な粒子を吹き飛ばすために使用され、乾燥効果を高める役割を果たします。これにより、製品の清浄度をさらに向上させることができ、次の工程への影響を最小限に抑えます。全体として、塩ビ製の洗浄ブースやエアナイフブースは、高品質なパネル製造を支える重要な設備です。

半導体製造工程で使用される薬液の安全な供給と管理を目的としています。半導体製造では、強酸や強アルカリなどの薬液を使用しますが、塩ビはこれらの化学物質に対して優れた耐薬品性を持つため、腐食や劣化を防ぎながら長期的に使用できます。さらに、塩ビは軽量で加工が容易であり、ユニットの設計や設置が柔軟に行えます。このため、薬液の供給・移送・循環システムとして、半導体洗浄工程やエッチング工程において、効率的かつ安全に薬液を供給するために使用されます。